目前大多數高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現溫度的高的精度測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測儀器通過多年研究開發了一種可實現高的精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

      它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都節省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統安全可靠。

     目前電網中大量使用變頻器等高頻、高功率設備，將對電網造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過程中影響弱信號的采集，華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用最新特殊參數分析技術,實現了高達120MHz的高頻測量,從而滿足了很多半導體,功能材料和納米器件的測試需求。